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壹石通:高频高速覆铜板的功用填料需求趋势现在以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主公司已具有相关这类的产品的量产才能

作者:开云kaiyun登录网页 发布时间:2024-09-16 06:31:53
  

  同花顺300033)金融研究中心08月08日讯,有投资者向壹石通发问, 有报导称:铜箔积层板(CCL)制造商斗山电子现已承认向英伟达供给HVLP(超低概括铜箔):一种高端电解铜箔,算力要求下,高速覆铜板对硅微粉的要求则更为严厉,请问贵公司的Low-球形氧化铝是否有该方向的使用?未来是否也活跃需求韩国的商场开辟?

  公司答复表明,敬重的投资者,感谢您对公司的重视! 高频高速覆铜板的功用填料需求趋势现在以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主,公司已具有相关这类的产品的量产才能。韩国是公司重要的方针商场,现在已向部分用户送样评价。 谢谢!

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